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  2. 2014.09.24 솔라셀제조용 Frunace
  3. 2014.09.24 반도체제조용 Furnace
  4. 2014.09.24 반도체제조용 Furnace
  5. 2014.09.24 반도체제조용 Furnace
제품코드G046053[G046053] Glass coating 강화로
판매 회사명(주)피앤테크
연락처043-211-3917
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Glass coating 강화로

PGS-B06 (6조 강화로)
Dimension : 11750 (L) * 2500(W) * 3200 (H)


1. Dimension : 11750 (L) * 2500(W) * 3200 (H)
2. Capacity
    - Windows Glass : Max 12,000 ea / 1 Cycle
    - Bare Glass : Max 200 ea / 1 Cycle
3. Product Size : 0.2t * 30 * 30 ~ 2t * 400 * 500
4. Process Step : Loading => Pre-Heat => Consolidation => 
                          Slow Cooling => Cleaning => Rinse => Unloading

5 강화  1회 Process 시 공정 Capa 계산

1. Glass 130*69.5 (4.1") 기준
   - 1 Cassette 65 Slot X 4열 X 6ea X 4단 적재시
      :  Total 6240장 Capa 적재 가능

2. Glass 270*172 (10.2") 기준
   - 1 Cassette 65 Slot X 6ea X 3단 적재시
     :  Total 1170장 Capa 적재 가능

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제품코드G046052[G046052] 솔라셀제조용 Frunace
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솔라셀제조용 Frunace

PF-S85 Furnace System
Solar Cell Process Application - POCl3 - BBr3 - N2/H2 Annealing - Oxidation - Activation


PF-S85 Series System Features

 - Wafer size : 125mm * 125mm, 156mm * 156mm

-  Load Capacity : 2000 wafers ( 1 Bank 5 Tube),  400 Wafers / 1 Tube
-  Auto Pressure Control  / Softland & Auto Door
-  Thermal uniformity  accuracy :
   * Between 400℃ and 800℃ ±1℃ /  Between 800℃ and 1150℃ ±0.5℃
-  Ramp rate : 0.1~ 20℃ per minute, both ramp up and ramp down
-  Operating temperature range : 400℃ ~ 1150℃
-  Boat  Speed  Control :  3~125 cm / minute
-  3~6 Zone  by Spikes and Profile T/C
-  Automation Application : Boat  Loader, Elevator

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반도체제조용 Furnace

PF-V12 Vertical Furnace System
Semiconductor Process Application - Oxidation - N2/H2 Annealing

PF-V12 Series System Features

- Wafer size : 125mm,150mm, 200mm, 300mm

-  Load Capacity : 75 Wafers
-  Thermal uniformity  accuracy :
   * Between 400℃ and 800℃ ±1℃
   * Between 800℃ and 1150℃ ±0.5℃
-  Ramp rate : 0.1~ 25℃ per minute

-  Operating temperature range : 400℃ ~ 1150℃
-  Boat  Speed : 3~125 cm / minute
-  3 or 4 Zone  by Spikes and  Profile T/C

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반도체제조용 Furnace

PF-D81 Furnace System
Semiconductor Process Application - Wet/Dry Oxidation - N2/H2 Sinter - Anneal - Poly - Nitride - HTO


PF-D81 Series System Features

-Wafer size : 125mm,150mm, 200mm
- Load Capacity : 75 Wafers
-  Thermal uniformity  accuracy :
   * Between 400℃ and 800℃ ±1℃
   * Between 800℃ and 1150℃ ±0.5℃
-  Ramp rate : 0.1~ 25℃ per minute
-  Operating temperature range : 400℃ ~ 1150℃
-  Boat  Speed : 3~125 cm / minute
-  3 Zone  by Spikes and  Profile T/C

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반도체제조용 Furnace

PF-D82 Furnace System
Solar Cell Process Application - POCl3 - BBr3 - N2/H2 Annealing - Oxidation

PF-D82 Series System Features

 - Wafer size : 125mm * 125mm, 156mm * 156mm

-  Load Capacity : 1~75 Wafers / Tube
-  Thermal uniformity  accuracy :
   * Between 400℃ and 800℃ ±1℃
   * Between 800℃ and 1150℃ ±0.5℃
-  Ramp rate : 0.1~ 25℃ per minute

-  Operating temperature range : 400℃ ~ 1150℃
-  Boat  Speed : 3~125 cm / minute
-  3 Zone  by Spikes and  Profile T/C
-  Cantilever or  Softland  Type

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